Düşük basınçta ayrı bir post – deşarj odasına akıtılan Gaz Deşarj Plazmaları
incelenmiştir. Bunun için birbirine paslanmaz çelik flanş ile bağlanmış iki adet cam reaktör
kullanılmıştır. Reaktörlerden birincisi "Deşarj Odası", ikincisi ise "Post – Deşarj" olarak
adlandırılmıştır. Deşarj odasında sabit elektrotlar arasında farklı gazların 18 kV – 15kHz
A.C. güç kaynağı kullanılarak deşarjları üretilmiştir. Bu deşarjlar bir vakum pompası
yardımıyla post – deşarj odasına (ikinci reaktör) akıtılarak Post – Deşarj Plazmalar ayrı bir
reaktörde üretilmiştir.
Deşarj ve Post - deşarj üretmek için gaz olarak Hava, Helyum, Argon ve Oksijen
kullanılmıştır. Üretilen her bir gazın post – deşarjı, post – deşarj odasında farklı noktalarda
Optik Emisyon Spektroskopisi (OES) ile incelenmiştir. Tüm deneylerde gaz akış hızı,
elektrotlar arasına uygulanan voltaj ve elektrotlar arası uzaklık parametreleri sabit
tutulmuştur. Bu parametreler sabit tutulurken basınç değişimi ile post deşarj oluşumu
incelenmiştir. Bununla birlikte deşarj oluşumu için koşullar sabit kalırken, yalnızca post –
deşarjın farklı noktalarında spektroskopik analiz yapılmıştır. Post – deşarjın, deşarja yakın
kısmı Erken post – deşarj, deşarja uzak kısmı da Geç post – deşarj olarak adlandırıldı. Bu
şekilde Erken, Orta ve Geç post – deşarjın spektroskopik analizi yapıldı. Ayrıca
fotoğraflama tekniği ile de üretilen deşarjların ve post – deşarjların yapısal değişimi
incelenmiştir. Bununla birlikte Helyum, Argon, Oksijen gazları için post – deşarj oluşum
koşulları elde edilmiştir.
Plasmas flowed to another post-discharge chamber at low pressure was
investigated. For this; two glasses reactor was tied with stainless steel flange each other.
The first reactor was named as discharge chamber. Second reactor was named as post –
discharge chamber.İn discharge chamber, discharge of different gasses was produced by
18kV – 18kHz Ac power source between fixed electrots. Post discharge plasmas were
produced in different reactor by pouring discharge to post discharge chamber(second
reactor) with a vacuum pump.
To produce discharge and post discharge , air, helium, argon and oxygen were used
as gasses. Each of the gasses post discharge which was produced; were investigated with
Optical Emission Spectroscopy (Oes) indifferent place of discharge chamber. In all
experiments, pressure, gas flow rate, power and distance parameters between the electrodes
is fixed. So that, while the conditions fort he formation of the discharge remains constant,
only spectroscopic analysis were made at different points of post – discharge.the part of
the post – discharge which is closed to discharge was named as "Early post - discharge",
remote part was named as "Late post - discharge" In this way, spectroscopic analysis of
early, middle and late post – discharge were made. In addition, the structural change of
discharges and post – discharges produced, are explored by photographing technique.
However, the post – discharge process conditions to helium, argon, oxygen gasses have
been achieved.
