Bu çalışmada, RF saçtırma sistemi kullanılarak çeşitli oksijen konsantrasyonlarda ZnO ince filmler cam alt taş üzerine depolanmıştır. Hedef olarak Zn kullanılmıştır. Reaktif gaz olarak ise yüksek saflıkta O2 gazı kullanılmıştır. Oluşturulan bu ZnO ince filmlerin bazı optik ve yüzey özellikleri incelenerek, farklı %xAr+%(100-x)O2 gazı bileşimlerinde özellikleri ve farklılıkları belirlenmeye çalışılmıştır.Farklı oksijen konsantrasyonlarda üretilen ZnO ince filmlerin, yapısal özellikleri, kalınlığı, geçirgenliği, kırılma indisi, yasak enerji aralığı, yüzey pürüzlülüğü ve yüzey görüntüleri elde edilmesi için x-ışın difraksiyonu (XRD), Uv-vis spektrofotometre, interferometrik ölçüm sistemi, atomik kuvvet mikroskobu kullanılarak incelenmiştir.Elde edilen sonuçlar incelendiğinde, farklı konsantrasyonlarda depolanan ZnO ince filmlerinin bazı fiziksel özelliklerinin oksijen gaz konsantrasyonuna bağlı olduğunu göstermiştir.
In this study, ZnO thin films were deposited on glass substrates using RF sputtering system at variously oxygen concentrations. Zn metal plate was used as target material. Also, oxygen was used as reactive gas in high purity. Some optical and surface properties of deposited ZnO thin films were investigated and these properties and differences of the properties of deposited ZnO thin films were tried to determine in %xAr+%(100-x)O2 gas compositions.Microstructure properties, thickness, transmittance, refractive index, band gap, roughness and surface image of the ZnO thin films in various oxygen concentrations were investigated by x-ray diffraction (XRD), Uv-vis spectrophotometer, interferometric measurement system, atomic force microscopy (AFM).Survey the obtained data shown that some physical properties of the ZnO thin films in various concentrations depend on oxygen concentrations.
