Bu çalışma kapsamında, saf materyal plazması üreten bir teknik olan Termiyonik
Vakum Ark (TVA) tekniği kullanılarak, tek katmanlı yansıtmaz (anti-reflective (AR))
kaplama malzemesi olarak en iyi bilinen MgF2 (Magnezyum Florür) bileşiğinin plazmasını
üreterek, cam taban üzerine ince filmler oluşturulmuştur. Oluşturulan bu ince filmlerin bazı
fiziksel özellikleri incelenmiştir. İnce filmlerin yüzey özelliklerini incelemek için atomik
kuvvet mikroskobu (AFM), kristal yapılarını incelemek için ise x-ışını kırınım (XRD) cihazı
kullanılmıştır. Üretilen ince filmlerin optik özellikleri ise görünür bölge için UV-Vis
spektrofotometri cihazı ve kızılötesi (IR) bölge için FTIR spektroskopisi cihazı kullanılarak
incelenmiştir
In this study, thin films were formed on the glass base by producing the plasma of
MgF2 (Magnesium Fluoride) compound, which is known as the most suitable material as
single layer anti-reflective (AR) coating material by using Thermionic Vacuum Arc (TVA)
technique, which produces pure material plasma. Some physical properties of the produced
thin films were investigated. Atomic Force Microscopy (AFM) was used to examine the
surface properties of the thin films and X-Ray Diffraction (XRD) device was used to
examine the crystal structures of the thin films. The optical properties of the produced thin
films were examined by using UV-Vis spectrophotometry for visible region and FTIR
spectroscopy for infrared (IR) region
